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时间 1989 - 2010 学科选择学科
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13篇 您的检索式：作者名="Mark J Kushner"
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    题名 作者 年代 出处 被引量
1The effect of CO2 on theplasma remediation of Nx0-^, 显示文摘Ann C Gentile Mark J Kushner 1996Applied Physics Letters1996，6815，：1
2A model for the discharge kinetics and plasma chemistry during plasma enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon显示文摘Mark J Kushner 1998J Appl Phys1998，63，：1
3Destruction mechanisms for formaldehyde in atmospheric pressure low temperature plasmas 显示文摘Daniel G Storch Mark J Kushner 1993J Appl Phys1993，73，1：1
4Destruction Mechanisms for Formaldehyde in Atmospheric Pressure Low Temperature plasmas显示文摘Danid G Storch Mark J Kushner 1993J Appl Phys1993，73，1：1
5Microarcs as a termination mechanism of optical pulses in electric-discharge excited KrF excimer lasers 显示文摘Mark J Kushner 1991IEEE Tran Pias1991，19，：1
6Destruction mechanisms for formaldehyde in atmospheric pressure low temperature plasma 显示文摘Storch Daniel G Mark J Kushner 1993Appl Phys1993，73，1：1
7Destruction mechanisms for formaldehyde in atmospheric pressure low temperature plasmas显示文摘Daniel G Storch Mark J Kushner 1993J Appl Phys1993，73，1：1
8Ion Energy and Angular Distributions into the Wafer-Focus Ring Gap in Capacitively Coupled Discharges 显示文摘Babaeva Natalia Y Kushner Mark J 2008Journal of Physics D: Appled Physics2008，41，：1
9Space and Phase Resolved Ion Energy and Angular Distributions in Single-and Fual-Frequen- cy Capacitivcly Coupled Plasmas显示文摘Zhang Yifing Kushner Mark J 2013Journal of Vacuum Sci- ence & Technology2013，31，06：1
10Dynamics of a coplanar-electrode plasma display panel cell Ⅰ: basic operation显示文摘Rawf Shahid Kushner Mark J 1999Jouranal of Applied Physics1999，85，7：1
11The 2012 Plasma Roadmap显示文摘Seiji Samukawa Masaru Hori Shahid Rauf Kunihide Tachibana Peter Bruggeman Gerrit Kroesen J Christopher Whitehead Anthony B Murphy Alexander F Gutsol Svetlana Starikovskaia Uwe Kortshagen Jean-Pierre Boeuf Timothy J Sommerer Mark J Kushner Uwe Czarnetzki N 2012Journal of Physics D: Applied Physics2012，，25：1
12Destruction mechanisms for formaldehyde in atmospheric pressure low temperature plasmas显示文摘Daniel G Storch Mark J Kushner 1993J Appl Phys1993，73，1：1
13A model for the dischange kinetics and plasma chemistry during plasma enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon显示文摘Kushner Mark J 1988J Appl Phys1988，63，：1
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