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1篇 您的检索式:作者名="R.Choi"
    题名 作者 年代 出处 被引量
1脉冲测量技术越过高K材料电荷捕获的壁垒显示文摘由于高介电常数的栅电路结构在俘获电荷机制上存在负面影响,常规的直流量测技术已经捉襟见肘了。脉冲电流-电压量测技术能够彻底解决这一难题,从而得到高介电常数栅电路结构晶体管的本征电学表现。Y.Zhao C.D.Young R.Choi B.H.Lee 2006集成电路应用2006,23,6:0
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