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1篇 您的检索式：作者名="Larry Levit"

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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	光刻掩模的静电放电损伤及其防护显示文摘半导体集成电路制造中,光刻工艺是整个制造过程中的核心技术。而光刻掩模(Reticle,Photomask)则为光刻技术中的最为关键的部件。随着半导体生产技术的不断提升,光刻掩模对静电放电敏感度也越来越高,如何防护光刻掩模避免遭受静电放电的损坏,已成为目前半导体集成电路制造中的一项挑战。	管伟 Larry Levit	2005	中国集成电路2005，14，10：	2

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