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| 1 | 一种降低光刻工艺中静电损伤的方法显示文摘集成电路光刻工艺中,由于静电造成晶圆缺陷、电学失效或者低良率的情况时有发生。这是一种低成本的工艺方法(低功率等离子体轰击),释放积聚在晶圆表面的静电,主要研究了静电产生的机制、降低静电损伤的效果和内在机制。 | 沈今楷 刘春玲 王星杰 | 2017 | 集成电路应用2017，34，3： | 0 |
| 2 | 基于卓越绩效模式测量分析改进方法对光罩静电损伤的改善研究显示文摘卓越绩效模式是企业经营管理成熟度模型,也是国家省市县区各级质量奖评审依据,其测量分析改进的方法可应用于企业的组织管理和质量改善方向。光罩(mask)又称掩膜版,由于光罩在无尘室环境中极化作用、摩擦、静电传导等原因,静电电荷会在光罩电路(pattern)铬膜上积聚,光罩不同电路所积聚电荷量不同从而形成电压差,电路之间电压差超过电路铬膜的击穿电压时,光罩电路会被静电击穿从而发生静电损伤。本文基于卓越绩效模式测量分析改进的方法,通过对光罩静电损伤分析研究,使用帕申定律、汤森放电理论和“5M1E”的理论,从产品设计开发和生产两方面提出改善光罩静电损伤对策,确定改进的绩效测量指标,提高产品质量,提高顾客满意度和忠诚度,降低返工成本。 | 张超义 梁伟 闫超 刘靖宇 牛锋 刘岗 | 2024 | 中国标准化2024，，1： | 0 |
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