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9篇 您的检索式：作者名="Devre M W"

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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	Optimization of gas flow and etch depth uniformity for plasma etching of large area GaAs wafers显示文摘	LEE J W JUNG P G DEVRE M	2002	SSE2002，46，：	1
	2	Advanced selective dry etching of GaAs/AlGaAs in high density inductively coupled plasmas显示文摘	J W Lee M W Devre B H Reelfs	2000	J Vac Sci Technol2000，18，4：	1
	3	Optimization of Gas Flow and Etch Depth Uniformity for Plasma Etching of Large Area GaAs Wafers 显示文摘	Lee J W Jung P G Devre M	2002	Solid-State Electronics2002，46，5：	1
	4	Optimization of gas flow and etch depth uniformity for plasma etching of large area GaAs wafers显示文摘	J W Lee P G Jung M Devre	2002	Solid-State Electronics2002，，46：	1
	5	Advanced Selective Dry Etching of GaAs/AlGaAs in High Density Inductively Coupled Plasmas显示文摘	Lee J W Devre M W Reeffs B H	2000	Vac Sci Technol2000，18，4：	1
	6	Optimization of gas flow and etch depth uniformity for plasma etching of large area GaAs wafers显示文摘	Jung P G Devre M	2002	Solid-State Electronics2002，46，：	1
	7	Stress ControUed Si-based PECVD Dielectrics 显示文摘	Mackenzie K D Johnson D J DeVre M W	2005	Electrochemical Society Proceedings2005，2005，1：	1
	8	Optimization of gas flow and etch depth uniformity for plasma etching of large area GaAs wafers显示文摘	LEE J W JUNG P G DEVRE M	2002	Solid-State Electronics2002，46，5：	1
	9	Advanced selective dry etching of GaAs/A1GaAs in high density in- ductively coupled plasmas显示文摘	LEE J W DEVRE M W REELFS B H	2000	Journal of Vacuum Science and Technology A2000，18，4：	1

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