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时间 1989 - 2010 学科选择学科
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1篇 您的检索式：作者名="Valentin Russier"
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    题名 作者 年代 出处 被引量
1铜箔在石墨烯表面沉积的多弧离子电镀工艺研究显示文摘一项新的铜箔在石墨烯薄膜上的沉积工艺已经被研究出来。和以往通过CVD法在铜箔上生长石墨烯的研究相比较,该研究应用了一种无接触式电子加工工艺的多弧离子电镀法。在实验中,石墨烯表面成功地形成了一层薄的铜膜,表明这种铜箔沉积工艺的实用性。此外,通过滚压可显著加快工艺过程,实现大量生产。Valentin Russier 2017机械制造与自动化2017，46，6：0
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