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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	用分子层掺杂法进行硼的超浅重掺杂显示文摘本文提出了一种新的掺杂方法:分子层掺杂(MLD)。它的机理是表面化学吸附掺杂气体的溶解物。以B_2H_6作掺杂气体按MLD工艺成功地获得了超浅掺硼层。所形成的p+n结特性理想,即在5V反问偏置下,漏电流小于2.5×10^(-16)A/μm^2。MLD法是快速提供高浓度、浅结、无损伤、选择掺杂的颇具吸引力的方法。	J.Nishizawa K.Aoki T.Akamine 钟煌煌	1992	微电子学与计算机1992，9，8：	0

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