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1篇 您的检索式：作者名="Marco Feldmann"

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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	Application of UV depth lithography in micro system technology显示文摘This letter reports on new types of photo resists allowing UV-light exposure of thick layers. Optimized processes Cthat for the positive resist AZ 9260 and the negative resist Epon SU-8 have been developed enabling the fabrication of high aspect ratio metallic and polymer micro components. The high potential of this technology will be demonstrated on the basis of two examples, a variable reluctance micro motor with compensated attractive force and an optical microphone developed for application in electro-magnetic interference environments.	Stephanus Büttgenbach Marco Feldmann	2008	Optoelectronics Letters2008，4，1：	0

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