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1篇 您的检索式：作者名="J.Provoost"

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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	降低双重图形光刻的成本显示文摘双重图形(DP)将是32nm技术节点的备选光刻技术之一。但由于这种方法需要两次曝光和两次刻蚀步骤,因此工艺成本较高且比较耗时。IMEC及其研发伙伴已经详细研究了替代工艺流程,从成本、关键尺寸均匀性(CDU)、线条粗糙度(LR)和套刻精度的角度,对工艺流程和材料进行了评估。	J.Provoost A.Miller M.Maenhoudt	2008	集成电路应用2008，25，11：	1

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