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11篇 您的检索式：作者名="FLAGELLO D"

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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	Theory of high-NA imaging in homogeneous thin films显示文摘	Flagello D G Milster T Rosenbluth A E	1996	J Opt Soc Am A1996，13，：	2
	2	Polarization effects associated with hyper-numerical-aperture lithography显示文摘	D Flagello B Geh S Hansen	2005	J Microlith Microfab Microsyst2005，4，03：	1
	3	Optical Lithography into the Millennium: Sensitivity to Aberrations,Vibration and Polarization 显示文摘	FLAGELLO D G MULKENS J WAGNER C	2000	SPIE2000，4000，：	1
	4	Understanding High Numerical Aperture Optical Lithography 显示文摘	FLAGELLO D G ROSENBLUTH A E PROGLER C	1992	Microelectronic Engineering1992，17，：	1
	5	Polarization effects associated with hyper-numerical-aperture(》1)lithography显示文摘	FLAGELLO D GEH B HANSEN S	2005	J Microlith Microfab Microsyst2005，4，03：	1
	6	Theory of high-NA imaging in homogeneous thin films显示文摘	Tom D Milster A E Rosenbluth	1996	J Opt Soc Am A1996，13，1：	1
	7	Polarization effects associated with hyper-numerical-aperture (> 1) lithography 显示文摘	Flagello D Geh B	2005	Journal of Microlithography Microfabrication and Microsystems2005，4，31：	1
	8	Benefits and limitations of immersion lithography显示文摘	Flagello D G Streefkerk B	2004	JM3-Journal of Microlithography Microfabrication and Microsystems2004，3，1：	1
	9	Benefits and limitations of immersion lithography 显示文摘	Mulkens J Flagello D	2004	Journal of Microlithography Microfabrication and Microsystems2004，3，1：	1
	10	Theory of high-NA imaging in homogeneous thin films显示文摘	Flagello D G Milster T Rosenbluth A E	1996	J Opt Soc Am A1996，13，：	1
	11	Benefits and limitations of immersion lithography显示文摘	MULKENS J FLAGELLO D STREEFKERK B	2004	Journal of Microlithography Microfabrication and Microsystems2004，3，1：	1

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