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2篇 您的检索式:作者名="C.Daube"
    题名 作者 年代 出处 被引量
1用RF/DC Move Mag法淀积的彩色滤光用低电阻率ITO薄膜显示文摘对MoveMag阴极(旨在提高靶利用率)叠加RF的DC磁控溅射方法所淀积的低电阻率ITO膜的结果进行了讨论。实验是在一个串级溅射系统ARISTO500S上进行的,可用基片面积高达570×1350mm2,在基片温度200℃及靶利用率高于40%的条件下,在玻璃(浮法玻璃)上得到电阻率小于150μΩcm的ITO薄膜。H.Frankenberger C.Daube J.Stollenwerk M.Bender A.Koppel F.Wette 1998液晶与显示1998,13,2:1
2用于PDP应用的高速MgO溅射源显示文摘BPS研制出一种用于PDP应用的新型高速MgO溅射源。该溅射源与现有的用于大批量生产的立式串级系统完全兼容。工艺过程是基于在金属镁靶上进行的全反应。此装置采用特殊设计,可解决低附着率以及由于靶电弧所引起的工艺不稳定等问题。本文还进一步讨论了表面拓朴学,溅射阻力以及其它有影响的参数。C.Daube H.Frankenberger1998液晶与显示1998,13,2:0
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