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9篇 您的检索式：期刊名="Optical Microlithography"

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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	How to describe polarization influence on imaging显示文摘	M Totzeck P Graupner	2005	Optical Microlithography2005，5754，：	1
	2	The impact of projection lens polarization properties on lithographic process at hyper-NA 显示文摘	Bernd Geha Johannes R uoff	2007	Optical Microlithography2007，6520，：	1
	3	Polarization aberration analysis in optical lithography systems 显示文摘	KYEA J MCINTYREB G NORIHIROC Y	2006	Optical Microlithography2006，36，7：	1
	4	Immersion fluid refrac- tive indices using prism minimum deviation techniques 显示文摘	FRENCH R H YANG M K LEMON M F	2004	Optical Microlithography2004，17，：	1
	5	Diffraction limited imaging using incoherently illuminated holographic masks显示文摘	Addiego G Oldham W G	1989	SPIE Optical/Laser Microlithography Ⅱ1989，1088，：	1
	6	High-resolution imaging using focused-image holography with wavefront conjugation显示文摘	Addiego G Oldham W G	1988	SPIE Optical/Laser Microlithography1988，922，：	1
	7	Understanding focus effects in submicron optical lithography,parts:methods for depth-of-focus improvement显示文摘	CHRIS A M	1992	SPIE Optical/Laser Microlithography1992，1674，274：	1
	8	Understanding lens ab- erration and influences to lithographic imaging显示文摘	SMITH B W SCHLIEF R	2000	Optical Microlithography XIII2000，，：	1
	9	Accelerated damage to blank and antireflectance-coated CaF2 surfaces under 157-nm laser irradiation 显示文摘	Liberman V Rothschild M Palmacci S T	2003	Optical Microlithography XVI2003，，：	1

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