超低场磁共振成像技术研究现状

查看全文 作　　者：[1,2]赵武贻;[1,2]魏树峰;[1,2]尤晓菲;[2]王慧贤;[2]胡丽丽;[2]杨文晖;[2]宋涛

机构地区：[1]中国科学院研究生院,北京100049;[2]中国科学院电工研究所,北京100190

出　　处：《国际生物医学工程杂志》索引2009年第32卷第4期,共8页

基　　金：基金项目:国家自然科学基金资助项目(50807050) 摘　　要：超低场磁共振成像技术是磁共振成像研究领域中最新的发展方向。与常规磁共振成像相比,超低场磁共振成像技术所需的成像磁体可降至mT级甚至uT级,不仅大大降低了设备的成本和体积,还能够获得普通高场磁共振成像设备无法得到的特殊图像,具有非常广阔的应用前景。综述了近年来超低场磁共振成像技术的发展概况,重点介绍了其中的预极化磁共振成像、质子一电子双共振成像、激光磁共振成像和超导量子干涉仪(SQUID)磁共振成像。 关键词：超低场预极化磁共振成像质子-电子双共振成像激光磁共振成像超导量子干涉仪磁共振成像

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