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Properties of indium tin oxide films deposited using high target utilisation sputtering

查看全文 作　　者：Calnan S; Upadhyaya H M; Thwaites M J; Tiwari A N 高影响力作者 出　　处：《Thin Solid Films》索引2007年第515卷第15期,共0页高影响力期刊
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