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| 1 | 电弧离子镀NiCoCrAlY涂层的组织结构及初期氧化显示文摘采用XRD,SEM,TEM和光激发荧光谱等技术对电弧离子镀制备的NiCoCrAlY涂层的组织结构和初期氧化的机理进行了研究.结果表明,电弧离子镀方法沉积的NiCoCrAlY涂层具有纳米晶体结构,呈明显的层状生长.真空退火后涂层内的层状结构消失,涂层组织更致密,晶粒明显长大.有孪晶出现.涂层在真空退火后表面已经生成一层很薄的以α-Al2O3为主的氧化膜,在高温氧化过程中,涂层表面的亚稳态氧化物θ-Al2O3先增多,然后逐渐转变为稳态的α-Al2O3,并对其相关机理进行了探讨. | 孙超 王启民 唐永吉 关庆丰 宫骏 闻立时 | 2005 | 金属学报2005，41，11： | 20 |
| 2 | 一步法制备含扩散阻挡层的多层体系及其界面结合强度显示文摘为抑制合金元素的互扩散,在Ni-Cr-Al-Y-Si涂层和DSM11基体间通过电弧离子镀技术一步制备了含扩散阻挡层(DB)和黏结层(BC)的多层体系Ni-Cr-Al-Y-Si/DB/BC/DSM11.由恒温氧化、循环氧化和粘胶拉伸实验考察了涂层的抗氧化性、DB阻挡元素扩散能力和体系的界面结合强度.结果表明,含扩散阻挡层的多层能很好地保护基体材料,经过1050℃恒温氧化100 h后,试样表面形成连续致密的Al_2O_3膜,外层中仅检测到微量的来自基体的合金元素;经过1050℃(?)室温(RT)循环氧化100 cyc后,DB与两侧材料的结合保持良好.退火多层体系的界面结合强度达到63.6 MPa,比不连续法制备的Ni-Cr-Al-Y/Cr-O-N/DSM11体系提高了约20 MPa.一步法制备能提高含扩散阻挡层多层体系的界面结合强度,DB在恒温和循环氧化过程中能保持很好的抑制元素扩散的能力. | 李伟洲 王启民 宫骏 孙超 姜辛 | 2010 | 金属学报2010，46，5： | 4 |
| 3 | 光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅱ.Al_2O_3膜应力测量与分析显示文摘用光激发荧光谱术分析测量磁控溅射Co—Cr-Al(Y)纳米涂层经1000,1100和1200℃氧化后Al2O3膜中的残余应力,获得如下结果: (1)残余应力随氧化温度升高而增大; (2)暂态氧化出现的区域应力值明显低于无暂态氧化的区域; (3)两种涂层1000℃下形成的氧化膜中的残余应力相差不大,但在1100和1200℃下,含Y涂层形成的氧化膜中的残余应力比不含Y中的高.对实验结果进行了分析. | 彭晓 王福会 D.R.Clarke | 2003 | 金属学报2003，39，10： | 1 |
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