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| 1 | UV/H_2O_2高级氧化技术在水处理中的研究进展显示文摘本文主要讨论了UV/H2O2高级氧化技术去除有机物的机理,在有机废水、饮用水处理中的应用进展。UV/H2O2工艺对水中生物难降解的有机污染物具有很好的处理效果,其主要影响因素包括污染物的初始浓度、紫外光波长及强度、H2O2投加浓度、pH、光照时间、浊度、水中存在的阴离子等。 | 阮久丽 王祥勇 陈洪斌 | 2010 | 四川环境2010，29，3： | 9 |
| 2 | UV/H_2O_2降解水中痕量NDMA的效能研究显示文摘采用UV/H2O2降解水中的痕量NDMA,考察了水中NDMA初始浓度、H2O2投量、pH、天然有机物及常见阴离子等因素的影响,并分析了NDMA的降解产物。结果表明,在UV辐照度为1 000μW/cm2、NDMA初始浓度为0.1 mmol/L、H2O2投量为20 mg/L、pH值为4的条件下,UV/H2O2对NDMA的降解效果较好(反应5 min后对NDMA的去除率接近100%);水中的天然有机物和Cl-、SO42-、NO3-、HCO3-等阴离子对NDMA的降解均有抑制作用,腐殖酸浓度越大其抑制作用越强,阴离子的抑制作用由大到小依次为HCO3-、NO3-、SO24-、Cl-;NDMA的主要降解产物为二甲胺和硝酸盐,此外还有少量亚硝酸盐、甲酸盐和甲胺生成。 | 黄露溪 沈吉敏 徐冰冰 陈忠林 | 2010 | 中国给水排水2010，26，5： | 7 |
| 3 | 光助氧化技术在水处理中应用显示文摘对UV/H2O2技术、UV/O3技术、UV/O3/H2O2技术、photo-Fenton技术以及UV/TiO2技术进行了总结,对不同技术的原理、研究进展及应用进行了评述,并对今后光助氧化技术的研究方向提出了一些建议。 | 张胜华 朱新锋 | 2005 | 环境技术2005，23，1： | 5 |
| 4 | UV技术在水处理中研究与应用进展显示文摘紫外光消毒和紫外光辅助的氧化技术在水处理中是一项逐渐被人们重视的技术。本文综述了当前紫外光技术在水处理领域的应用和研究状况,着重介绍了紫外线技术在水消毒以及辅助高级氧化技术在去除水中污染物方面的应用,讨论了该技术在水处理应用过程中存在的一些问题,同时展望了紫外光技术在水处理领域的应用前景。 | 朱新锋 冯兴华 | 2007 | 浙江化工2007，38，1： | 2 |
| 5 | UV技术在水处理中的研究与应用进展显示文摘紫外光消毒和紫外光辅助的氧化技术在水处理中是一项逐渐被人们重视的技术。本文综述了当前紫外光技术在水处理领域的应用和研究状况,着重介绍了紫外线技术在水消毒,以及辅助高级氧化技术在去除水中污染物方面的应用,讨论了该技术在水处理应用过程中存在的一些问题,同时展望了紫外光技术在水处理领域的应用前景。 | 罗领先 张乐观 朱新锋 | 2006 | 广东化工2006，33，10： | 2 |
| 6 | 二氯酚异构体光降解特性的气相色谱研究显示文摘利用所建立的分离测定2,4-二氯酚、2,6-二氯酚、3,4-二氯酚3种异构体的气相色谱方法,研究了相同条件下该3种异构体单独与混合降解时降解率的差异,以及降解率与光照时间、起始浓度、光照距离的关系.初步考察了3种异构体在模拟水样中的降解情况,300 min后降解率达95%以上. | 周建科 岳强 李路华 李敬霞 | 2005 | 河北大学学报(自然科学版)2005，25，5： | 1 |
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