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| 1 | 冷喷涂Ta涂层组织及腐蚀性能显示文摘利用冷喷涂技术在316L不锈钢表面制备Ta涂层。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对涂层的相结构和微观组织进行了分析,通过显微硬度计和万能力学试验机测定涂层的显微硬度和结合强度;采用电化学试验机测试了涂层和不锈钢基体的腐蚀性能。结果表明:涂层微观组织均匀致密,孔隙率为0.5%;涂层与基体结合良好,结合强度为60 MPa;涂层平均显微硬度为256 HV0.3;Ta涂层的自腐蚀电位(-0.25V)略低于316L不锈钢块体(-0.13 V),自腐蚀电流密度(2.16×10^(-7)A/cm^(2))比316L不锈钢(4.83×10^(-7)A/cm^(2))降低了一倍,钝化电位及钝化电流分别为-0.06 V和1.05×10^(-4)A/cm^(2),具有很宽的钝化区,能够有效保护316L基体。 | 崔烺 王春婷 贾利 路梦柯 刘光 陈杰 | 2021 | 材料热处理学报2021，42，2： | 2 |
| 2 | 冷喷涂沉积层中的孔隙及其控制措施显示文摘冷喷涂沉积层中的孔隙率反映了喷涂颗粒的变形程度及它们之间的结合程度,对沉积层的硬度、弹性模量、摩擦磨损性能、耐腐蚀性能和疲劳性能等均有一定影响。沉积层孔隙率对评价沉积层综合性能、优化冷喷涂工艺等均有着重要的意义,是衡量沉积层质量的重要指标之一。目前已有多篇文章系统介绍了冷喷涂工艺对沉积层性能的影响,但鲜有关于冷喷涂沉积层中孔隙及其控制措施的综述性报道。为此,在参阅了大量文献的基础上,系统阐述了冷喷涂沉积层中孔隙的形成及其检测方法和影响因素,并总结了孔隙率对沉积层性能的影响及降低沉积层孔隙率的措施。 | 刘晗珲 任宇鹏 李铁藩 崔新宇 王吉强 熊天英 | 2022 | 材料保护2022，55，1： | 2 |
| 3 | 中国科学院金属研究所冷喷涂技术研究进展显示文摘冷喷涂具有喷涂温度低和颗粒速度高的特点,是一种发展十分迅速的材料固态沉积技术,在金属涂层制备、增材制造和零部件修复方面具有广阔的应用前景。作为国内最早从事冷喷涂技术研究的单位之一,作者所在单位中国科学院金属研究所在冷喷涂沉积层的结合机制探索、组织性能调控及技术开发应用等方面开展了大量的研究工作。本文将围绕上述方面系统介绍中国科学院金属研究所冷喷涂技术的研究进展。 | 熊天英 王吉强 | 2023 | 金属学报2023，59，4： | 0 |
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