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1电积钴板微观组织结构及力学性能对比显示文摘研究了3种电积钴板的微观组织结构和力学性能之间的差异,采用X射线衍射仪和扫描电子显微镜分析了3种电积钴板的择优取向、晶体结构和微观组织形貌;并分析了3种电积钴板的强度、硬度和韧性。结果表明:3种电积钴板均是密排六方结构(hcp)的纯钴相,晶粒取向随机。A-Co板沉积层均匀致密、孔洞较少,而B-Co板和C-Co板的沉积层较为分散且存在大量的孔洞。同时A-Co板表面的平均晶粒尺寸最小,沉积层晶粒大小分布均匀,B-Co板表面的平均晶粒尺寸最大,沉积层晶粒大小分布不均匀。3种电积钴板截面的始极片都是柱状晶结构,且始极片两侧的生长方式不同。由力学性能分析发现A-Co板的抗拉强度和硬度均高于其它2种钴板,但是韧性较差。综上所述,A-Co板的品质要明显优于B-Co板和C-Co板的品质。徐仰涛 代靖民 裴亮 彭尹 杜海洋 2023稀有金属材料与工程2023,52,10:0
2CeCl_(3)对工业电解液中钴电沉积层的晶粒细化作用显示文摘稀土元素具有较强的吸附性,可以提高电沉积过程中的形核率,从而通过阻碍晶粒长大来改善沉积层的微观组织。本文为了研究不同浓度的氯化铈(CeCl_(3))对工业电解液中钴电沉积层的晶粒细化作用,采用普林斯顿电化学工作站,通过阴极极化曲线、循环伏安曲线和计时电流曲线分析不同浓度的CeCl_(3)对钴电结晶行为的影响;利用扫描电子显微镜和原子力显微镜分析沉积层微观组织及粒径尺寸,并通过X射线衍射分析其择优取向和晶体结构。结果表明:工业电解液中添加不同浓度的CeCl_(3)会使得钴的沉积电位发生负移,过电位增大,形核弛豫时间tm缩短,加快了钴电沉积过程的形核速率;但是添加CeCl_(3)并不会改变钴的电结晶形核/生长机制,在峰值电流之前均为三维瞬时形核方式;随沉积时间的延长,形核曲线逐渐偏离三维瞬时形核曲线并趋于稳定,且钴沉积层晶体结构也不会发生改变,仍为密排六方结构(HCP)。当添加0.4 g/L的CeCl_(3)时,晶粒取向由(■)面择优生长转变为(■)和(■)晶面择优生长,沉积层的晶粒分布均匀,晶粒也得到了明显的细化。徐仰涛 代靖民 裴亮 杜海洋 王超 2023中国有色金属学报2023,33,3:0
3硅酸钠对硫酸盐溶液中电沉积锰的影响(英文)显示文摘研究硅酸钠对硫酸盐溶液中锰电沉积的影响。锰电沉积实验结果表明,添加一定量的硅酸钠可以提高锰电沉积的阴极电流效率,且初始pH 7.0~8.0是获得较高阴极电流效率的pH优化值。扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析结果表明,所得电沉积层呈致密、纳米晶结构。X射线光电子能谱(XPS)分析结果表明,电沉积层中含Mn、Si和O元素。硫酸盐溶液和硅酸钠溶液化学计算结果表明,在锰电沉积过程中,Mn^(2+)、MnSO_4、Mn(SO4)_2^(2-)、Mn^(2+)、MnSiO_3、Mn(NH_3)^(2+)、SiO_3^(2-)和HSiO_3^-是主要的活性组分。Mn^(2+)与含硅离子的反应趋势经热力学计算分析证实。此外,极化曲线测试结果表明,添加硅酸钠可以提高析氢过电位,从而间接提高了阴极电流效率。薛建荣 钟宏 王帅 李昌新 武芳芳 2016Transactions of Nonferrous Metals Society of China2016,26,4:0
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