维普中文期刊产品整合服务
共被期刊论文引用了1次 您的检索式:您选中1篇文献正在查看引证文献汇总
    题名 作者 年代 出处 被引量
1离子注入法制备超薄氚源显示文摘叙述了一种用于中微子静止质量测量的大面积高活度氚源的离子注入制备过程。氚注入在微晶玻璃基板上的碳膜中,由此获得窄条形(0.2mm宽)、大面积(40×30mm2)、高活度(约20MBq/cm2)、氚分布均匀(95%)、氖注入厚度为2μg/cm2、氚的逃逸速度≤4×102Bq/h的氚源。陈庆望 李济民 梁东祺 1996原子能科学技术1996,30,1:0
返回顶部 每页显示:
共1页 首页 上一页 第1页 下一页 末页 /1 跳转

网站首页 | 关于我们 | 联系我们 | 产品服务 | 客服中心 | 广告服务 | 版权声明 | 网站联盟 | 友情链接 | 售卡网点

版权所有© 渝B2-20050021-1 渝公网安备 50019002500403号 违法和不良信息举报中心

互联网出版许可证 新出网证(渝)字10号 全国400电话 - 免长途话费