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| 1 | 大变形软材料接触摩擦的在线测试装备与技术分析显示文摘我国高档密封件与液压件产品几乎全部依赖进口,国家重大技术装备及国防装备等配套零部件行业的许多问题与摩擦学有十分重要的关系,基础件摩擦学又是国际上的研究热点与发达国家的竞争高地.在本文中阐述了国内外关键机械零部件的接触界面原位在线测试的研究进展,及其在大变形软材料密封系统中的应用,综述了摩擦润滑中迁移状态实时在线观测技术、聚合物密封界面在线观测技术和国内在摩擦过程的微区域原位研究等进展,还分析了特殊与极端工况条件下大变形聚合物密封的性能测试、可靠性寿命分析以及多工况联合测试的技术进展,分析和讨论了高性能密封件行业的基础共性难题,最后进行了总结与展望. | 谭桂斌 黄兴 高军翔 张永康 田应成 | 2022 | 摩擦学学报2022，42，1： | 2 |
| 2 | AEO6对铜CMP后清洗颗粒去除的影响显示文摘硅溶胶等残留颗粒是铜CMP后清洗需要去除的沾污之一。在FA/OⅡ螯合剂的协同作用下,对比了八种表面活性剂和四种添加剂对铜表面颗粒沾污去除的影响,表面活性剂包括阴离子型ALS、LABSA、MAP-K、LPS-30和非离子型AEO6、LEP-10、LDEA、APG1214,添加剂为硝酸钾、柠檬酸、乙二醇、枧油。并对表面活性剂和添加剂的浓度进行优化。清洗方式为使用PVA刷进行刷洗,清洗后通过金相显微镜检测剩余颗粒,扫描电镜观测铜表面形貌。实验得出颗粒去除效果较好的表面活性剂为AEO6,较佳的浓度为0. 02 M。聚氧乙烯类表面活性剂与FA/OⅡ螯合剂的配伍效果较好。添加0. 9wt%枧油可使AEO6清洗液的颗粒去除效果略微提升,枧油做复配的非离子表面活性剂。 | 胡新星 檀柏梅 | 2018 | 硅酸盐通报2018，37，10： | 2 |
| 3 | 微小非球面纳米抛光工艺研究显示文摘针对微小非球面斜轴镜面磨削时存在的表面/亚表面缺陷、表面粗糙度均匀性差以及传统抛光工艺难以抛光微小非球面等一系列难题,开发一种利用磁性复合流体和斜轴抛光方式进行微小凹非球面超精密抛光的新工艺。以口径在10mm以下的超精密微细透镜及微细模具中的各种微小球面、微小凹非球面为主要加工对象,展开磁性复合流体抛光工艺研究。分析磁性复合流体工艺参数对加工质量和表面去除率的影响,优化工艺参数,解决了微小非球面纳米抛光的关键技术问题。 | 段红杰 李一浩 | 2014 | 组合机床与自动化加工技术2014，，12： | 2 |
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