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| 1 | SnS/ZnO叠层太阳能电池的制备及性能研究显示文摘目的获得光电性能较佳的Sn S/Zn O叠层太阳能电池。方法通过磁控溅射法,采用不同的溅射参数在FTO玻璃上制备Sn S和Zn O薄膜,研究Sn S和Zn O薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性能,最终获得制备叠层太阳能电池的最佳方案。结果沉积Sn S薄膜的溅射功率、沉积时间、工作气压为28W,40 min,2.5 Pa和36 W,25 min,2.3 Pa时,获得的两种Sn S薄膜均在(111)晶面具有良好的择优取向,晶粒较大,表面致密光滑,禁带宽度分别为1.48,1.83 e V。沉积Zn O薄膜的溅射功率、溅射时间、工作气压为100 W,10 min,2.5 Pa时,Zn O薄膜的结晶性能更优,透过率更大,适合作为太阳能电池的n层。以宽禁带Sn S(1.83 e V)为外p型吸收层,窄禁带宽度Sn S(1.48 e V)为内p型吸收层制备的FTO/n-Zn O/p-Sn S(1.83 e V)/n-Zn O/p-Sn S(1.48 e V)/Al叠层太阳能电池,其光电转化效率为0.108%,短路电流为0.90 m A,开路电压为0.40 V。结论制得的叠层太阳能电池性能较传统单层太阳能电池更优。 | 范文娟 邹敏 常会 霍红英 夏冬 | 2014 | 表面技术2014，43，6： | 2 |
| 2 | Optimization of SnS active layer thickness for solar cell application显示文摘This work presents a comparative study of n-SnS and p-SnS active layers for increased solar cell efficiency. Tin sulphide thin films of various thicknesses having p-type and n-type conductivity were fabricated by thermal evaporation. Both type of films had the same(113) orientation of the crystal planes with a constant tensile strain of ~ 0.003 and ~ 0.011, respectively. The persistent photocurrent was observed in all n-SnS and p-SnS samples with the current's time decay constant decreasing with increasing film thickness. Hole mobility of thicker p-SnS films was found to be greater than the electron mobility in n-SnS samples, with mobility(both hole and electron) showing an increasing trend with film thickness. The optimum absorber layer thickness for both p-and n-SnS layers should have a high value of diffusion length for a given absorption coefficient and band-gap. | Yashika Gupta P.Arun | 2017 | Journal of Semiconductors2017，38，11： | 1 |
| 3 | 磁控溅射法制备SnS薄膜的结构和光学性能显示文摘利用磁控溅射法在FTO玻璃上制备了Sn S薄膜。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和紫外可见分光光度计对不同溅射参数下制备的Sn S薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性能进行研究,确定出制备Sn S薄膜的最优溅射参数。结果表明:溅射功率为28 W,沉积气压在2.5 Pa时,制备出的Sn S薄膜在(111)晶面具有最好的择优取向,薄膜微观形貌呈单片树叶状,晶粒粒径约370 nm,晶粒分布均匀,薄膜表面光滑致密;最优溅射参数下制备的Sn S薄膜的吸收系数可达到105cm-1,比其他方法制备的Sn S薄膜的吸收系数值高,禁带宽度为1.48 e V,与半导体太阳能电池所要求的最佳禁带宽度(1.5 e V)十分接近。 | 范文娟 邹敏 常会 霍红英 万书权 | 2015 | 材料热处理学报2015，36，4： | 0 |
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