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| 1 | Sn掺杂ZnO电子结构与光学性质的第一性原理研究显示文摘采用密度泛函理论框架下的第一性原理计算方法,利用广义梯度近似和Perdew-Burke-Ernzerdorf泛函,计算了不同Sn掺杂浓度下SZO(Sn∶ZnO)体系的电子结构与光学性质.研究了Sn掺杂浓度对SZO(Sn∶ZnO)的晶体结构、能带结构、电子态密度及光学性质的影响,并结合计算的能带结构和差分电荷密度对比分析了掺杂位置对计算结果的影响.研究结果表明,随着Sn掺杂浓度的增加,晶格常数c与a的比值变化很小,掺杂后晶胞没有发生畸变.掺杂体系的能量逐渐增大,稳定性减弱,且随着掺杂浓度的增加,带隙呈现先减小后增大的变化规律.掺杂后的SZO(Sn∶ZnO)成为间接带隙半导体,在导带底部附近出现了大量Sn原子贡献的导电载流子,明显提高了掺杂体系的电导率,并在费米能级附近与价带顶部之间出现一条由Sn原子贡献的杂质能级,能带结构呈现半填满状态,价带部分的电子态密度峰值向低能方向移动约1.5eV.同层掺杂的电子得失程度较大,带隙比相邻层掺杂和隔层掺杂时小.掺杂后吸收带边发生红移,材料对紫外光的吸收能力明显增强,介电常数虚部增大,主要跃迁峰向高能方向移动.计算结果表明SZO(Sn∶ZnO)是一种优良的透明导电薄膜材料. | 崔红卫 张富春 邵婷婷 | 2016 | 光学学报2016，36，7： | 14 |
| 2 | ITO/Ag/AgNW新型复合透明导电薄膜性能研究显示文摘采用磁控溅射和湿法涂布技术制备了一种ITO/Ag/AgNW结构的新型复合透明导电薄膜。研究其光学、电学等性能发现:ITO/Ag/AgNW薄膜在400~700nm的平均透过率高于ITO/Ag/ITO薄膜,且方块电阻远小于ITO/Ag/ITO薄膜,达到6.9Ω/□;耐弯折性能测试后,其方块电阻约增加62%,达11.2Ω/□。研究结果表明,这种新型的复合透明导电薄膜具有低阻、高透及耐弯折良好的特性,在柔性显示领域具有一定的应用潜力。 | 张晓东 魏葳 杨钊 陈微微 黄林泉 田占元 | 2019 | 半导体光电2019，40，2： | 7 |
| 3 | 常温下ZnO/Ag/ZnO复合薄膜的制备及其光电特性显示文摘采用射频磁控溅射与电子束蒸发的方式,制备了ZnO/Ag/ZnO三层复合薄膜,研究了Ag薄膜厚度以及电子束蒸发的沉积速率对复合薄膜光电性能的影响。实验结果表明,当Ag薄膜厚度为8nm、电子束蒸发的沉积速率为0.5nm·s^(-1)时,复合薄膜的性能最优,其方块电阻为6.01Ω,波长400~800nm范围内的光平均透过率为91.39%。优化后的ZnO/Ag/ZnO复合薄膜具有良好的光电特性。 | 郭凯 于涛 宋斌斌 李新连 赵树利 | 2017 | 激光与光电子学进展2017，54，10： | 6 |
| 4 | 电介质/金属/电介质结构透明导电薄膜的研究进展显示文摘电介质/金属/电介质(D/M/D)结构透明导电薄膜是经过独特设计的一类性能优良的透明导电薄膜,经过多年研究,其各项性能指标得到了极大地提高,其应用范围也在不断拓展,目前已可应用于诸多领域。主要论述了D/M/D多层透明导电膜的研究现状,包括膜层设计原理、材料选择机制,并总结了金属层厚度、金属退火温度对膜系结构、光学、电学性质的影响机制。 | 廉吉庆 王丽军 王小平 陈海将 宋明丽 宁仁敏 柯小龙 安宁宁 | 2017 | 功能材料2017，48，1： | 5 |
| 5 | 柔性透明导电薄膜对液晶调光膜性能的影响研究显示文摘液晶调光膜是一种新型功能性光电薄膜,应用广泛,液晶调光膜由一层聚合物分散液晶材料(PDLC)和两层柔性透明导电薄膜组成,柔性透明导电薄膜作为液晶调光膜的重要原材料,其性能直接影响调光膜的各性能。文章通过对比分析不同柔性透明导电薄膜优劣,得出如何充分发挥各导电薄膜的特性,使调光膜的各项性能最佳。 | 吴琴 汤立文 李唯 | 2016 | 中国高新技术企业2016，，36： | 5 |
| 6 | 透明导电氧化物薄膜的研究现状及发展趋势显示文摘透明导电薄膜属于存在视觉层面上的透明度,也存在导电能力的薄膜材料,具体包含了金属导电薄膜、氧化物导电薄膜、其他化合物导电薄膜等。本文主要讲述当前研究和应用最为广泛的透明导电氧化物(TCO)薄膜,介绍了了透明导电氧化物薄膜的特性,制备方法,应用以及发展趋势。 | 杨秀峰 | 2019 | 科技视界2019，，2： | 4 |
| 7 | 磁控溅射制备本征ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜的性质研究显示文摘室温下采用射频磁控溅射氧化锌(Zn O)粉末靶、银(Ag)靶,在玻璃衬底上制备Zn O/Ag/Zn O透明导电薄膜。首先,Zn O厚度为30 nm时,改变Ag厚度制备3层透明导电薄膜,研究Ag层厚度及膜层间配比对光电性能的影响;其次,按Zn O:Ag厚度比为30:11比例制备不同厚度的3层透明导电薄膜,研究多层厚度对薄膜光电性能的影响。结果表明:Ag厚度为8 nm及11 nm的Zn O/Ag/Zn O表面相对平整,结晶程度较好,在可见光范围内最高透过率达到90%及86%,并且方块电阻为6Ω/及3.20Ω/,具有优良的光电性;当按配比制备Zn O/Ag/Zn O 3层膜时,增加Zn O厚度对Ag层的增透作用反而减弱,同时增加Ag层厚度也会降低3层薄膜的整体光学性。 | 李彤 周艳文 王艳雪 赵卓 武俊生 王晓明 高鹏 | 2018 | 发光学报2018，39，9： | 4 |
| 8 | 遮阳可控性低辐射玻璃的制备及性能显示文摘本研究通过常压CVD法在玻璃基板上分别镀制单层SnO2∶Sb(ATO)薄膜和SnO_2∶F(FTO)/ATO复合薄膜,研究单层ATO薄膜和复合薄膜对玻璃光电性能的影响。结果表明:单层ATO薄膜和复合薄膜均为四方金红石型多晶SnO_2薄膜,且结晶性能良好,结晶度高。单层ATO薄膜可明显降低玻璃的透过率,改善玻璃的导电性和遮阳性。复合薄膜相对于单层ATO薄膜,导电性、遮阳性和辐射性能均有较大的提升,薄膜电阻率、遮阳系数和辐射率随着复合薄膜膜厚的增加而逐渐降低,薄膜晶粒增大。当复合薄膜厚度为821nm时,薄膜电阻率为4.9×10^(-4)Ω·cm,遮阳系数和辐射率分别为0.50和0.06,远红外反射率达到93.9%。 | 陈峰 姜宏 赵会峰 张振华 鲍思权 | 2018 | 材料科学与工程学报2018，36，1： | 3 |
| 9 | ITO/Ag/ITO透明导电膜性能研究进展显示文摘复合型透明导电膜ITO/Ag/ITO是一种极具发展潜力的高性能透明导电膜,其导电性远高于传统透明导电材料氧化铟锡(ITO),同时可大幅节约ITO膜中的稀缺元素In。文章阐述了ITO/Ag/ITO复合膜的设计原理及其设计中存在的问题,分析了ITO/Ag/ITO结构中底层ITO膜、外层ITO膜和Ag膜在膜系结构中的作用及其对ITO/Ag/ITO光学和电学性能的影响,阐明了Ag膜对ITO/Ag/ITO光学和电学性能的决定性作用,综述了对Ag膜进行退火处理、添加其他金属元素、引入超薄层等提高Ag膜沉积质量和性能的方法,展望了高性能ITO/Ag/ITO复合透明导电膜今后的研究方向。 | 王孝丽 牛玉超 肖辰 丁博森 刘相局 马晓宇 | 2015 | 山东建筑大学学报2015，30，4： | 3 |
| 10 | 不同温度对原子层沉积掺铝氧化锌薄膜性能的影响显示文摘采用热原子层沉积(ALD)方法,在固定氧化锌与氧化铝沉积比例的情况下,研究了不同温度下在玻璃衬底上沉积的掺铝氧化锌薄膜性能的变化,特别是'ALD窗口'温度的影响。通过计算薄膜沉积速率,得到了薄膜沉积的'ALD窗口'温度范围为225~275℃,相应的沉积速率为0.214 nm/cycle。分析样品的表面形貌后发现,虽然反应的温度有所不同,但薄膜的微观结构均为密集堆积的纺缍体,它们的尺寸受到温度、晶体结构等因素的影响。结构分析表明,在'ALD窗口'温度范围内,所有沉积得到的样品均为(100)择优取向,并且结晶质量、晶粒尺寸以及(002)峰的相对强度均随着温度升高而增大。薄膜的光学透过率以及光学带隙没有随温度变化而表现出明显的变化,分别在80%(350~770 nm)和3.90 e V左右。薄膜的电导率和光学质量在'ALD窗口'内随温度增加而增长,直到300℃时达到最佳。 | 张增光 汤洋 | 2017 | 真空科学与技术学报2017，37，12： | 3 |
| 11 | Ti/FTO复合薄膜的激光辐照处理及其光电性能研究显示文摘采用532nm波长的纳秒脉冲激光对由直流磁控溅射法制备的Ti/FTO复合薄膜表面进行了辐照处理,研究了激光能量密度对薄膜的表面形貌、晶体结构、光学性能和电学性能的影响。结果表明,采用适当能量密度的激光对薄膜进行激光辐照处理,一方面可对薄膜表面起到退火作用,促进薄膜晶粒生长、消除部分晶体缺陷,另一方面还可促使Ti层氧化成TiO_2层,最终使薄膜的综合光电性能得到提升。 | 任乃飞 祖伟 李保家 黄立静 曹海迪 | 2017 | 中国激光2017，44，5： | 3 |
| 12 | 超声喷雾法制备SnO2:Sb电热薄膜结构和电学性能显示文摘以SnCl 4·5H 2O和SbCl 3为原料,无水乙醇作溶剂,溶胶-凝胶法制备SnO 2∶Sb(ATO)薄膜的前驱体溶液,再用超声喷雾热解法制得薄膜,并用包括四探针测试仪及热功率测试设备等在内的方法对样品进行表征。结果表明:超声喷雾热解法可制备表面平整的ATO薄膜;Sb元素的掺杂并未改变SnO 2的晶体结构,且随着沉积温度的增加,薄膜的结晶度提高;当沉积温度为500℃,Sb掺量为1.5at.%,c(Sn)=0.8mol/L时方块电阻最小,为105Ω/□,施加220V电压最高加热温度达到213℃。 | 童卫红 吴其胜 顾斌 陈秋静 | 2020 | 材料科学与工程学报2020，38，3： | 2 |
| 13 | 新型电极材料石墨烯在LED中的应用显示文摘石墨烯具有独特的力学、热学和光电学性能,良好的热稳定性与化学稳定性,是制备高性能导电薄膜的理想材料之一。主要介绍了石墨烯薄膜的制备和表征技术以及石墨烯导电薄膜作为电极应用在GaN基LED中的研究进展和存在的问题,并对石墨烯电极的应用前景进行了展望。 | 吴才川 刘斌 谢自力 修向前 陈鹏 韩平 张荣 孔月婵 陈辰 | 2013 | 激光与光电子学进展2013，50，8： | 2 |
| 14 | 放电等离子体烧结下Nb掺杂量对TiO_2陶瓷靶材性能的影响显示文摘采用放电等离子体(SPS)烧结制备了Nb掺杂TiO_2(NTO)陶瓷靶材,运用X射线衍射分析、扫描电子显微镜、四探针测试仪等对NTO陶瓷靶材样品的各性能进行表征。研究了在1100℃下不同Nb掺杂量对NTO陶瓷靶材相对密度、抗弯强度、电阻率、表面形貌与微观结构等性能的影响。实验结果表明:不同Nb掺杂量对NTO陶瓷靶材的性能有显著的影响,在1100℃烧结的NTO陶瓷靶材样品,随着Nb掺杂量的升高,相对密度、抗弯强度和电阻率先增大后逐渐降低,在5wt%掺杂量处均达到了最大值,且此时结晶完好、晶粒大小分布均匀。综合而言,5wt%Nb掺杂量的NTO陶瓷靶材的各项性能表现最优,其电阻率为13.23 mΩ·cm,抗弯强度为139.1 MPa,相对密度达到99.9%。 | 赵江涛 沈金城 刘欢 董磊 王晨 杨海涛 | 2018 | 硅酸盐通报2018，37，9： | 2 |
| 15 | 磁控溅射法制备ITO膜层及其光电性能研究显示文摘利用直流磁控溅射法在有机玻璃基底上沉积掺杂氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,在室温条件下,研究了溅射功率、溅射气压、靶基距和氧氩流量比等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明,ITO薄膜的透光率随溅射功率和靶基距的增大而减小,当溅射功率为110W、靶基距为70mm时,ITO薄膜的透光性和导电性较为优良。在近紫外光波段和近红外光波段,ITO薄膜的透光率随溅射气压的增大而减小。当氧氩流量比为4:30时,ITO薄膜在500nm到600nm可见光范围内的透光性和综合性能最好。 | 张健 齐振华 李建浩 牛夏斌 徐全国 宗世强 | 2022 | 真空2022，59，6： | 2 |
| 16 | 直流磁控溅射法制备GZO薄膜及其结构和光电性能的研究显示文摘为了提高GZO薄膜性能的稳定性,在溅射温度为室温、气压为0.2 Pa、靶基距为100 mm等工艺条件下,利用直流磁控溅射法在氧化铝基底上沉积超厚型的镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,并探究不同溅射功率对GZO薄膜的表面生长方式、内部晶体取向和光电性能的影响。利用X射线衍射仪、四探针、原子力显微镜等仪器对制备的薄膜进行表征,结果发现随着溅射功率的增大,GZO薄膜晶胞的生长方向由径向生长变为横向生长;薄膜内的晶体结构的衍射峰先增强后降低;薄膜在可见光范围内的平均透光率出现先增大后减小,最后再次增加的趋势。GZO薄膜样品的方块电阻随功率的增加逐渐呈现出下降的趋势,当溅射功率为250 W时,薄膜的方块电阻最低,最低值为18Ω/□。当溅射功率为180 W时,薄膜的择优取向衍射峰峰值达到最大,薄膜的晶胞生长饱满并且结晶性能良好,薄膜表面致密性平整;GZO薄膜的平均透光率在可见光波段范围内达到最高并且接近95%,薄膜的方块电阻为34Ω/□。 | 张健 齐振华 李建浩 牛夏斌 唐智聪 | 2022 | 真空科学与技术学报2022，42，4： | 1 |
| 17 | 脉冲激光制备纳米材料研究进展显示文摘纳米材料是20世纪末期发展起来的新型材料,其以优异的特殊性能得到了广泛关注。纳米材料的制备是纳米科技中的重要领域。本文介绍了脉冲激光烧蚀法制备纳米材料的两个重要途径--脉冲激光沉积法和脉冲激光液相烧蚀法,包括这两种方法的原理、特点、应用领域以及国内外的研究进展,最后阐述了脉冲激光沉积法和脉冲激光液相烧蚀法在制备工艺和材料性能方面仍需面对的挑战以及未来的发展趋势。 | 王莉萍 王彬 李光石 朱洪斌 鲁雄刚 | 2021 | 激光与光电子学进展2021，58，9： | 1 |
| 18 | 介质/金属/介质透明导电薄膜研究进展显示文摘介质/金属/介质(dielectric/metal/dielectric,D/M/D)多层膜既透明又导电且具有柔性,最有可能替代ITO膜,作为透明导电电极,应用于柔性显示、太阳能电池等光电器件。本文介绍D/M/D膜系的起源,分析了透明导电机理,然后,从多层膜制备参数,热处理工艺及纳米银层表面等离激元共振对多层膜光电性能的影响三个方面综述了D/M/D膜系中得到广泛研究的二氧化钛/银/二氧化钛多层膜的最新研究进展,并展望了D/M/D透明导电薄膜的研究方向。 | 张康 褚向前 刘丽华 万磊 何金俊 李欢欢 方应翠 | 2017 | 真空科学与技术学报2017，37，11： | 1 |
| 19 | NiO/Ag/NiO透明导电膜光电特性研究显示文摘在室温条件下,利用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了NiO/Ag/NiO透明导电膜,研究了不同NiO层和Ag层厚度对三层膜可见光透过率和电阻特性的影响。结果分析表明:制备的NiO/Ag/NiO为N型透明导电膜。在400~800 nm的可见光区域内,随着NiO和Ag层厚度的增加,薄膜的透光率先增大后减小。NiO层厚度为30 nm且Ag层厚度为11 nm时,叠层膜具有较好的光学特性,其最大透过率为84%,薄膜电阻为3.8Ω/sq,载流子浓度为7.476×1021cm-3。对薄膜透过率进行了计算机模拟,发现结果与实验中大致趋势相同,但因为折射率选择和薄膜界面等因素的影响,在可见光区域后半段实验值大于计算值。 | 孙阳 修显武 何源 王森 滕树云 王书运 | 2018 | 真空科学与技术学报2018，38，1： | 1 |
| 20 | 透明导电薄膜(Ⅲ):TCO/M/TCO三层透明导电薄膜显示文摘TCO/M/TCO三层透明导电薄膜具有可见光区透光率高、导电性好且超薄的特点,适用于包括柔性基底在内的电子器件的透明导电电极。本文阐述三层透明导电氧化物/金属/透明导电氧化物(TCO/M/TCO)薄膜透光导电原理,厚度设计及其对光电性能的影响,金属层的选择及作用机制,溅射氛围和后处理工艺对薄膜性能的影响。 | 闫彩波 周艳文 粟志伟 王鼎 杨东明 | 2021 | 辽宁科技大学学报2021，44，4： | 1 |
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