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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	磁控溅射法制备铁酸铋基薄膜的研究进展显示文摘铁酸铋材料是唯一的室温单相多铁材料,在微电子学、光电子学等领域具有广泛的应用。磁控溅射法是制备铁酸铋薄膜的一种常见手段。本文综述了射频磁控溅射制备铁酸铋薄膜的研究进展,详细阐述了溅射工艺参数(靶材、缓冲层、溅射气压、氧气压力、沉积温度)对其微结构与电性能的影响,并提出了亟待解决的问题。	孙远洋雷天宇张玉任红蔡苇符春林	2014	中国陶瓷2014，50，6：	1

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