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| 1 | 施镀时间对化学镀镍液阻抗谱及镀层表面形貌的影响显示文摘为了寻找一种可以简单方便测定化学镀液寿命的检测方法,考察了经不同施镀时间后的镀液的电化学阻抗谱(EIS)行为。结果发现,化学镀液的EIS都表现出具有2个时间常数的特征,在中频区,界面电荷传递电阻(Rd值)随施镀时间延长而显著增大,表明镀层表面晶体生长速率变慢,沉积速度降低。新配制镀液的Rd值为177.4Ω·cm2,而施镀2h后镀液的Rd值增至798.5Ω·cm2。原子力显微镜(AFM)的观察结果表明,施镀时间越长,镀层表面越粗糙。施镀1h的镀层表面纵向高度差约为1.1μm,而施镀3h后镀层表面纵向高度差达到1.6μm。 | 谢治辉 余刚 | 2014 | 材料导报(纳米与新材料专辑)2014，28，2： | 3 |
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