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时间 1989 - 2010 学科选择学科
题名/关键词 模糊
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    题名 作者 年代 出处 被引量
1反应磁控溅射技术的发展情况及趋势显示文摘综述了反应磁控溅射技术的发展情况。分析了模拟反应磁控溅射的/Berg0经典模型;详述了反应磁控溅射过程中迟滞效应和打火现象的产生原理及过程;分析了消除迟滞效应和打火现象的各种方法并提出个人的观点;展望了反应磁控溅射技术的发展趋势。王治安 刘晓波 刘维 王军生 韩大凯 戴彬 童洪辉 2013真空科学与技术学报2013，33，12：11
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