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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	SiO_2基底上化学镀Ni-Mo-P薄膜的生长和形成机理(英文)显示文摘采用化学镀方法在SiO2/Si基底上制备Cu互联线用阻挡层材料Ni-Mo-P薄膜。采用场发射扫描电子显微镜、电子分散能谱仪、原子力显微镜分析不同沉积时间样品的表面形貌和成分,并对Ni Mo P薄膜的形成过程进行研究。Ni-Mo-P薄膜的形成过程分为3个阶段:催化阶段,先前还原的Pd颗粒成为Ni还原的催化形核中心,诱导Ni沉积;覆盖阶段,Ni颗粒诱导Mo、P与之进行共沉积;自生长阶段,Ni-Mo-P薄膜共同沉积,颗粒生长。阐述了还原剂被氧化后产物为PO3_4的的反应机理。	王梅玲杨志刚张弛刘殿龙	2013	Transactions of Nonferrous Metals Society of China2013，23，12：	0

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