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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	工艺条件对水热电化学沉积HA/TiO_2涂层的影响显示文摘采用微弧氧化法在钛合金表面制备出含有钙磷元素的TiO2氧化膜,利用水热电化学法制备了HA/TiO2涂层。借助SEM、XRD对涂层的表面形貌、物相组成进行了分析,研究了电流密度、温度和沉积时间对水热电化学沉积HA/TiO2涂层的影响。结果表明,含钙磷TiO2层有利于水热电化学方法生长HA,得到的HA晶体分布均匀、致密;随着温度的升高,HA晶体尺寸呈增大趋势;在一定范围内,HA晶体尺寸随沉积时间的延长呈增大趋势,若沉积时间过长,则HA晶体尺寸会出现异常粗大的现象;HA晶体尺寸随电流密度的升高变化不大。	徐敏马凤仓刘平李伟刘新宽陆晓琴	2013	金属热处理2013，38，12：	3

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