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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	缓冲层对AZO薄膜的性能影响显示文摘采用射频磁控溅射法分别在ZnO缓冲层和Al2O3缓冲层上制备Al掺杂ZnO(AZO)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计、霍尔测试仪等仪器对薄膜的光电特性进行表征.XRD分析结果表明,加入缓冲层的薄膜具有更好的c轴择优取向,薄膜的表面平整,结晶质量有所改善,薄膜在可见光范围内的平均透过率超过80%.引入ZnO缓冲层制备的AZO薄膜的最低电阻率为5.8×10-4Ω·cm,导电性能得到明显提高.	李长山赵鹤平肖立娟郝嘉伟	2013	吉首大学学报(自然科学版)2013，34，3：	2

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