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1工艺因素对磁控溅射法制备钛酸锶钡薄膜性能的影响显示文摘磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用。本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上,详细分析了溅射工艺参数(溅射功率、温度、溅射气压、氧分压)对BST薄膜性能的影响,并提出了研究中需要解决的一些问题。张玉芹 邓小玲 刘行冰 符春林 成计平 2013硅酸盐通报2013,32,12:1
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