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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	化学溶液沉积法制备铁掺杂镍酸镧薄膜的结构及电学性能研究显示文摘采用化学溶液沉积法,在(100)取向单晶硅衬底上制备铁掺杂镍酸镧(LaNi1-xFexO3,LNFeO-x)薄膜,研究了其结构和室温下的导电特性。X射线衍射测试结果表明,经700℃1 h退火的薄膜呈钙钛矿结构,没有可以观察到的杂相生成。薄膜表面平整、致密,没有微裂痕出现。随着铁含量的增加,薄膜电阻率由1.7 mΩ.cm增加到3.9 mΩ.cm。	陈如麒翁嘉文劳媚媚徐军朱贵文	2012	中山大学学报(自然科学版)2012，51，3：	3

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