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| 1 | 三种不同全瓷系统底层冠适合性的比较显示文摘目的研究三种不同全瓷冠系统制作的底层冠边缘适合性。方法以金属烤瓷冠作为对照组,加工一个金属主代型,然后复制20个环氧树脂代型,随机分为4组,分别制作金属烤瓷冠、IPS-Empess(压铸瓷)全瓷、Cerec 3(椅旁牙科计算机辅助设计与辅助制作)全瓷、GI-Ⅱ(玻璃渗透氧化铝)全瓷底层冠各5个,用扫描电镜(SEM)来评价冠的适合性。结果各种全瓷系统边缘适合性之间有显著差异(P<0.05)Ⅰ,PS-Em-press 2系统制作的冠边缘的间隙最小,GI-Ⅱ系统制作全瓷冠的边缘间隙最大。结论三种全瓷系统底层冠的边缘适合性都在120μm临床接受的范围之内,IPS-Empess系统边缘间隙最小且均匀一致,边缘适合性最高,GI-Ⅱ系统边缘间隙最大且不均匀,适合性最差。 | 渠澜 刘洋 | 2012 | 中国医学工程2012，20，3： | 2 |
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