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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	电弧离子镀AlN薄膜的光致发光性能的研究显示文摘在电弧离子镀弧靶前加挡板以去除大颗粒污染,分别在Si(100)基底上制备非掺杂的纯AlN薄膜,在石英玻璃基底上制备Cu掺杂的AlN薄膜.用X射线衍射(XRD)分析表明,纯AlN膜为弱(100)多晶织构,而掺Cu的AlN薄膜为非晶结构;X射线光电子能谱(XPS)研究表明,Cu掺杂AlN薄膜中,Cu为+1价,原子百分含量为11%;光致发光谱显示纯AlN薄膜发紫光(~400nm),Cu掺杂的AlN薄膜发蓝光(~450nm).	邱万奇蔡明钟喜春余红雅刘仲武曾德长	2010	材料研究与应用2010，4，4：	0

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