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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	脉冲激光气相沉积法制备的非晶CH薄膜特性分析显示文摘采用脉冲激光气相沉积(PLD)法,研究了氢气压强对非晶CH薄膜性能的影响。原子力显微镜图和白光干涉图显示,薄膜表面平整致密,随着氢气压强增大,粗糙度变大。拉曼光谱分析表明,氢气压强增加,G峰和D峰位置都在向高波数方向移动。傅里叶变换红外光谱分析显示,薄膜中存在sp3—CH2和sp2—CH等基团。最后,采用PLD漂浮法在最优参数氢气压强为0.3 Pa下,成功制备了不同厚度(100-300 nm)、满足一定力学强度、无明显宏观缺陷的自支撑CH薄膜。	马婷婷王雪敏王海平李建根戴阳吴卫东	2010	强激光与粒子束2010，22，6：	0

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