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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	硅化钛薄膜的制备与应用显示文摘金属硅化物因其薄膜电阻率低,熔点高,化学性质稳定,在微电子领域具有广阔的使用前景。本文系统地阐述了硅化钛的性质、制备方法(包括自对准硅化物技术及CVD技术)及其应用。对硅化钛在集成电路中的应用进行了重点介绍。	徐向勤杜军	2007	电镀与涂饰2007，26，9：	3

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