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1稀土Dy掺杂纳米SnO_2薄膜的结构与气敏特性显示文摘采用真空蒸发法在玻璃衬底上制备稀土Dy掺杂Sn薄膜,对薄膜进行合适的氧化、热处理后获得Dy掺杂SnO2薄膜。用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、静态配气法对薄膜性能进行测试,研究不同掺Dy含量和热处理条件对SnO2薄膜的影响。结果显示,制备的SnO2薄膜呈金红石结构为n型;在相同热处理条件下,Dy掺杂可明显缩短薄膜氧化、热处理的时间;适当掺入稀土Dy可明显改善SnO2薄膜的结构、气敏特性。掺Dy 3at%后可大大提高SnO2薄膜对丙酮气体的灵敏度。闫君 李健 汪良 2009功能材料与器件学报2009,15,4:3
2掺锑氧化锡材料制备方法研究进展显示文摘综述掺锑氧化锡制备方法的研究进展。溶胶-凝胶法、喷雾热分解法、水热法、化学沉淀法都是良好的制备方法,但工业应用都存在一定的不足。溶胶-凝胶法制备的粉体分散性好、纯度高但工艺控制困难。喷雾热分解法简单方便但不能排除Cl-。水热法团聚低,纯度高但设备昂贵。化学沉淀法成本低但容易产生团聚现象。刘述忠 2010有色金属2010,62,3:2
3简易化学水浴法制备SnO_2/p-Si异质结光电性能(英文)显示文摘通过一种简易化学水浴法将SnO_2薄膜沉积在晶硅衬底上以制备n-SnO_2/p-Si异质结光电器件,这种自制的化学水浴装置非常便宜和方便.采用XRD、SEM、XPS、PL、紫外-可见光分光光度计和霍尔效应测试系统表征了SnO_2薄膜的微结构、光学和电学性能,对SnO_2/p-Si异质结的I-V曲线进行测试并分析,获得明显的光电转换特性.何波 徐静 宁欢颇 赵磊 邢怀中 张建成 秦玉明 张磊 2017红外与毫米波学报2017,36,2:1
4原子层沉积及其在透明导电薄膜领域的研究与应用显示文摘集成电路行业器件尺寸不断缩小,表面更复杂,对镀膜提出了更高的要求,而原子层沉积因其保形性和自限制生长的优势而获得了广泛的关注和研究。本文在简要介绍一些常用的镀膜方式基础上,对原子层沉积原理及自限制生长进行了重点介绍。以氧化铟为代表,通过对比分析说明原子层沉积制备薄膜在形貌、成分等方面的优越性,对不同方式制备的常见透明导电薄膜的光电性能进行了总结。详细讨论了原子层沉积的应用范围,包括在大尺寸基底,如大平面和大曲率基底上可以制备高质量薄膜,在小尺寸基底,如粉体、沟槽、微纳结构上仍然有着超高的保形性。最后对原子层沉积制备薄膜的优势进行了总结,对其独特的发展潜力进行了展望。段超 李坤 高岗 杨磊 徐梁格 浩钢 朱嘉琦 2023人工晶体学报2023,52,6:0
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