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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	光刻与微纳制造技术的研究现状及展望显示文摘首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后重点介绍了浸没光刻、极紫外光刻、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、纳米压印光刻等技术的概念、发展过程和特点,并对不同光刻技术的优缺点和生产适用条件进行了比较。最后结合国内外生产商、工程师和研究学者的研究成果,对光刻技术的未来发展做出展望。	周辉杨海峰	2012	微纳电子技术2012，49，9：	12
	2	准分子激光光刻技术及进展综述显示文摘从准分子激光的概念及特点引入,概述了以248nm KrF、193nm ArF以及157nm F2准分子激光光刻技术的现状和进展,并探讨了该领域面临的诸多挑战以及解决思路。	王光伟	2008	天津工程师范学院学报2008，18，1：	5

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