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| 1 | 电参数对铝合金微弧氧化陶瓷层结构特性的影响显示文摘采用微弧氧化技术,利用Na2SiO3-NaOH-(NaPO3)6溶液,在LY12表面形成了微弧氧化陶瓷层.研究了微弧氧化电参数:电流、占空比、频率对陶瓷层的生长速率、组织形貌的影响.结果表明,大电流密度虽有利于陶瓷层生长,但不利于致密型陶瓷层的制备;占空比和频率对陶瓷层生长速度无明显影响,但占空比越小、脉冲频率越大,陶瓷层表面形成的微孔也较小,陶瓷层较为致密. | 付翀 郑晶 李尧 | 2008 | 西安工程大学学报2008，22，4： | 18 |
| 2 | 铝合金微弧氧化陶瓷膜的微观结构和耐蚀性显示文摘采用非对称方波输出模式的恒流交流电源,利用微弧氧化方法在铝合金表面沉积Al2O3陶瓷膜,考察了微弧氧化工艺参数(电流密度、处理时间)对膜层微观结构和耐蚀性的影响.结果表明:工艺参数对膜层组织结构和性能的影响存在较佳的范围,即氧化时间为15-20min,电流密度在20A/dm2左右;氧化时间过短时,试样表面存在陶瓷膜未完全覆盖的区域,而当电流密度过大时,膜层表面将会出现大量的显微裂纹,导致膜层性能大幅度降低;在恒流非对称方波输出模式下,工艺参数对膜层的相组成影响不大,微弧氧化膜层由晶态Al2O3和非晶态Al2O3组成. | 杜军 陈东初 李文芳 张永君 彭继华 | 2007 | 华南理工大学学报(自然科学版)2007，35，3： | 8 |
| 3 | Al_2O_3/TiO_2复合膜的结构及光催化性能显示文摘利用电沉积方法在铝硫酸阳极氧化膜表面制备了具有光催化活性的T iO2薄膜。分析了A l2O3/T iO2复合膜的结构,观察了薄膜表面形貌及断面构造,并分析了薄膜表面的化学成分,通过紫外光照射下甲基橙溶液的光催化降解反应初步研究了该复合膜的光催化活性。结果表明,未经热处理的A l2O3/T iO2复合膜处于非晶态,550℃热处理3 h后,T iO2转变为锐钛矿结构;沉积在铝氧化膜表面的T iO2薄膜厚度约5μm,呈均匀不连续状态,表面存在大量裂纹,电沉积T iO2过程中基体氧化铝存在着部分溶解;薄膜表面主要由T i、O两种元素构成,同时存在较少量的A l、S、K等元素。该A l2O3/T iO2复合膜可光催化降解甲基橙溶液,具有光催化活性。 | 张欣宇 李荣先 王臻 张维丽 杨发达 | 2007 | 电镀与精饰2007，29，1： | 2 |
| 4 | Al_2O_3/TiO_2/M复合膜的制备显示文摘利用直流脉冲氧化和交流电沉积,在铝基体表面制备了Al2O3/TiO2复合膜。探讨了Al2O3/TiO2复合膜的形成过程及制备过程的影响因素。通过电沉积在Al2O3/TiO2复合膜上掺杂金属离子来提高复合膜的光催化性能,并用制备的Al2O3/TiO2/M复合膜光催化降解次甲基蓝。 | 吕向菲 梁燕萍 闫蕾 | 2008 | 工业催化2008，16，5： | 0 |
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