共被期刊论文引用了2次
您的检索式：您选中1篇文献正在查看引证文献汇总
|
|
|
题名
|
作者
|
年代
|
出处
|
被引量
|
| 1 | 50nm分辨力极端紫外光刻物镜光学性能研究显示文摘极端紫外光刻 (EUVL)作为实现 10 0~ 32nm特征尺寸微细加工的优选技术 ,其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计软件CODEV对 6枚非球面反射镜构成的光刻物镜设计和光学性能分析 ,其分辨力可以实现 5 0nm ,曝光面积为 2 6mm× 1mm。结果表明 ,光学性能对曝光场点的依赖关系。在全曝光场中进行了光学性能分析 ,其最大畸变为 3.77nm ,最大波面差为 0 .0 31λ(均方根值 ) 。 | 李艳秋 | 2004 | 光学学报2004，24，7： | 15 |
| 2 | Mo/Si多层膜残余应力的研究显示文摘在极紫外光刻技术中 ,光学系统对多层膜光学元件表面面形精度有严格的要求 ,并且多层膜光学元件需要较高的反射率。由于多层膜中存在的内应力将改变光学元件的表面面形 ,因此在不减少反射率的前提下 ,一定要减少或补偿多层膜内的残余应力。论述了Mo/Si多层膜应力产生的原因和几种减少与补偿应力的技术 ,介绍应力的几种测量方法。 | 向鹏 金春水 | 2003 | 光学精密工程2003，11，1： | 10 |
您所在的机构暂未开通此部分的功能，请联系管理员