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| 1 | 金属钴填充碳纳米管的微结构研究显示文摘以Co/硅胶为催化剂,采用化学催化法制备了金属Co填充的碳纳米管,并用高分辨透射电镜(HRTEM),微区电子衍射(SAED)及纳米束能谱分析(EDS)等现代手段对碳纳米管和填充物的形态和微结构进行了深入研究.结果表明,本实验采用的方法能获得大量的被金属Co填充的碳纳米管,填充物为具有面心立方结构的α-Co,填充的α-Co经常出现孪晶.本文还阐明了整个填充的微观过程并对生长机理进行了初步探讨. | 马希骋 郑国斌 冯景伟 李凤照 温树林 | 2003 | 无机材料学报2003，18，6： | 5 |
| 2 | 磁控溅射不同Cr含量Ta-Cr-N薄膜力学及摩擦学性能研究(英文)显示文摘使用Cr,Ta靶材,采用反应磁控溅射制备了不同Cr含量的Ta-Cr-N薄膜,对不同薄膜的化学结构、力学性能、耐磨性进行了分析比较。XRD、SEM、EDS、纳米压痕、球盘摩擦及划痕试验被用于测试薄膜的结构及力学性能。在TaN薄膜中掺杂Cr导致晶格常数及薄膜晶粒大小的降低。当Cr含量增加时,薄膜硬度,结合力及耐磨性都有所改善。当Ta-Cr-N薄膜中Cr含量达到29.5%时,薄膜显示了最高的硬度,最小的晶粒及最低的磨损率。 | 刘星 马国佳 张林 孙刚 段玉平 刘顺华 | 2012 | 稀有金属材料与工程2012，41，S2： | 1 |
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