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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	投影光刻中焦深问题的研究与分析显示文摘聚焦对投影光刻系统(如步进机)的影响是了解及控制光刻工艺的关键因素。随着特征尺寸的减小,它对聚焦误差的灵敏度迅速升高。因此,许多人认为聚焦灵敏度是光学光刻进入更小特征尺寸的主要障碍。	Mark.,CA 平静	1997	电子工业专用设备1997，26，2：	0

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